ผลของอัตราไหลแก๊สออกซิเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางเซอร์โคเนียมออกซิไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธี รีแอคตีฟ ดีซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง (Effect of O2 Flow Rate on Structure of Zirconium Oxynitride Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputter
รหัสดีโอไอ
Title ผลของอัตราไหลแก๊สออกซิเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางเซอร์โคเนียมออกซิไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธี รีแอคตีฟ ดีซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง (Effect of O2 Flow Rate on Structure of Zirconium Oxynitride Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering)
Creator จินดาวรรณ ธรรมปรีชา
Contributor หัวหน้าโครงการ
Publisher มหาวิทยาลัยราชภัฏพระนครศรีอยุธยา
Publication Year 2557
Keyword เซอร์โคเนียมออกซิไนไตรด์;ฟิล์มบาง;รีแอคตีฟ สปัตเตอริง;อัตราไหลแก๊สออกซิเจน;โครงสร้าง (Zirconium Oxynitride;Thin Films;Reactive Sputtering;O2 Flow Rate;Structure)
National Research Council of Thailand

บรรณานุกรม

EndNote

APA

Chicago

MLA

ดิจิตอลไฟล์

Digital File #1
DOI Smart-Search
สวัสดีค่ะ ยินดีให้บริการสอบถาม และสืบค้นข้อมูลตัวระบุวัตถุดิจิทัล (ดีโอไอ) สำนักการวิจัยแห่งชาติ (วช.) ค่ะ